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Novel methodology to include all measured size values per defect to improve defect size distribution

Hess, Christopher; Weiland, Larg H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Rechnerentwurf und Fehlertoleranz (IRF)
Publikationstyp Buchaufsatz
Publikationsjahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 351798
Erscheinungsvermerk In: Proceedings of the Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, ASMC, Boston, MA 1998.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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