Chemical vapor deposition in hot wall reactors - the interaction between homogeneous gas phase and heterogeneous surface reactions
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1998 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 369298 |
| Erscheinungsvermerk | Chemical vapor deposition 4 (1998) S. 157. |