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Chemical vapor deposition in hot wall reactors - the interaction between homogeneous gas phase and heterogeneous surface reactions

Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 369298
Erscheinungsvermerk Chemical vapor deposition 4 (1998) S. 157.
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