KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon - IV. Pyrocarbon deposition from methane in the low temperature regime. V. Influence of the reactor volume / substrate surface area ratio

Becker, Armin; Huettinger, Klaus J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 369598
Erscheinungsvermerk Carbon 36 (1998) S. 213, 225.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page