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Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon - IV. Pyrocarbon deposition from methane in the low temperature regime. V. Influence of the reactor volume / substrate surface area ratio

Becker, Armin; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 369598
Erscheinungsvermerk Carbon 36 (1998) S. 213, 225.
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