KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon - II. Pyrocarbon deposition from ethylene, acetylene and 1,3-butadiene in the low temperature regime. III. Pyrocarbon deposition from propylene and benzene in the low temperature regi*

Becker, Armin; Huettinger, Klaus J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 369698
Erscheinungsvermerk Carbon 36 (1998) S. 177, 201.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page