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Optimierung der Prozeßbedingungen zur Herstellung von Mikrostrukturen durch ultratiefe Röntgenlithographie (UDXRL)

Achenbach, Sven; Pantenburg, F. J.; Mohr, Jürgen

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-AAA55220005
KITopen-ID: 5522000
Reportnummer: FZKA-6576
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Verlag Universität Karlsruhe (TH)
Erscheinungsvermerk Karlsruhe 2000. (Wissenschaftliche Berichte. FZKA. 6576.) Fak. f. Maschinenbau, Diss. v. 14.7.2000 von Sven Achenbach.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Prüfungsdaten Diss. v. 14.7.2000
Externe Relationen Abstract/Volltext
Nachgewiesen in OpenAlex

Volltext §
DOI: 10.5445/IR/5522000
Seitenaufrufe: 476
seit 22.05.2018
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Cover der Publikation
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