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DOI: 10.5445/IR/5522000

Optimierung der Prozeßbedingungen zur Herstellung von Mikrostrukturen durch ultratiefe Röntgenlithographie (UDXRL)

Achenbach, Sven; Pantenburg, F.J.; Mohr, Jürgen



Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2000
Sprache Deutsch
Identifikator URN: urn:nbn:de:swb:90-AAA55220005
KITopen-ID: 5522000
Reportnummer: FZKA-6576
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Karlsruhe 2000. (Wissenschaftliche Berichte. FZKA. 6576.) Fak. f. Maschinenbau, Diss. v. 14.7.2000 von Sven Achenbach.
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Prüfungsdaten Diss. v. 14.7.2000
Externe Relationen Abstract/Volltext
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