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Plasmachemistry: N2(SiCl3)4 - a tetrakissilylhydazine as a product of the reaction between N2 and SiCl4

Schiefenhoevel, N.; Himmel, Hans-Jörg; Binnewies, Michael



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Anorganische Chemie (AOC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1433-7851
KITopen-ID: 6552003
Erschienen in Angewandte Chemie, International edition
Verlag John Wiley and Sons
Band 42
Seiten 5956
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