Hochauflösende Röntgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit großem Akspektverhältnis
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISSN: 0947-8620 urn:nbn:de:0005-072151 KITopen-ID: 1000004255 Reportnummer: FZKA-7215 |
| HGF-Programm | 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme |
| Verlag | Universität Karlsruhe (TH) |
| Umfang | IV, 71 S. |
| Serie | Wissenschaftliche Berichte. FZKA ; 7215 |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Maschinenbau (MACH) |
| Institut | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Prüfungsdaten | 16.02.2006 |
| Prüfungsdatum | 16.02.2006 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Dissertation von Timo Mappes |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |
| Referent/Betreuer | Saile, V. |