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Memory effects in electrochemically gated metallic point contacts

Maul, R.; Xie, F.-Q.; Obermair, C.; Schön, G.; Schimmel, T.; Wenzel, W.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4719207
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Zitationen: 9
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Zitationen: 11
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Zitationen: 9
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Steinbuch Centre for Computing (SCC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951
KITopen-ID: 1000035302
HGF-Programm 43.11.03 (POF II, LK 01) Molecular building blocks
Erschienen in Applied Physics Letters
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 100
Heft 20
Seiten 203511/1-5
Nachgewiesen in Web of Science
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