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Sub-50 nm Channel Vertical Field-Effect Transistors using Conventional Ink-Jet Printing

Baby, Tessy Theres; Rommel, Manuel; von Seggern, Falk; Friederich, Pascal; Reitz, Christian; Dehm, Simone; Kübel, Christian; Wenzel, Wolfgang; Hahn, Horst; Dasgupta, Subho



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1002/adma.201603858
ISSN: 0935-9648, 1521-4095
KITopen ID: 1000062486
HGF-Programm 43.22.03; LK 01
Erschienen in Advanced materials
Band 29
Heft 4
Seiten 1603858 /1-6
Bemerkung zur Veröffentlichung 2016 online veröffentlicht
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