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Sub-50 nm Channel Vertical Field-Effect Transistors using Conventional Ink-Jet Printing

Baby, Tessy Theres; Rommel, Manuel; von Seggern, Falk; Friederich, Pascal; Reitz, Christian; Dehm, Simone; Kübel, Christian; Wenzel, Wolfgang; Hahn, Horst; Dasgupta, Subho



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adma.201603858
Scopus
Zitationen: 10
Web of Science
Zitationen: 12
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0935-9648, 1521-4095
KITopen-ID: 1000062486
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01)
Erschienen in Advanced materials
Band 29
Heft 4
Seiten Art. Nr. 1603858
Vorab online veröffentlicht am 18.11.2016
Schlagworte 2014-013-004778 FIB TEM
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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