Sub-50 nm Channel Vertical Field-Effect Transistors using Conventional Ink-Jet Printing
Baby, Tessy Theres 1; Rommel, Manuel 1; Seggern, Falk von 1; Friederich, Pascal
1; Reitz, Christian 1; Dehm, Simone 1; Kübel, Christian
1,2; Wenzel, Wolfgang 1; Hahn, Horst 1; Dasgupta, Subho 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Reitz, Christian 1; Dehm, Simone 1; Kübel, Christian
1,2; Wenzel, Wolfgang 1; Hahn, Horst 1; Dasgupta, Subho 11 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsdatum | 25.01.2017 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0935-9648, 1521-4095 KITopen-ID: 1000062486 |
| HGF-Programm | 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems |
| Erschienen in | Advanced materials |
| Verlag | John Wiley and Sons |
| Band | 29 |
| Heft | 4 |
| Seiten | Art.Nr. 1603858 |
| Vorab online veröffentlicht am | 18.11.2016 |
| Schlagwörter | 2014-013-004778 FIB TEM |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |