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Verlagsausgabe
DOI: 10.5445/IR/1000081590
Originalveröffentlichung
DOI: 10.3390/app8040528

Chemical and Molecular Variations in Commercial Epoxide Photoresists for X-ray Lithography

Vlnieska, Vitor; Zakharova, Margarita; Börner, Martin; Bade, Klaus; Mohr, Jürgen; Kunka, Danays



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2076-3417
URN: urn:nbn:de:swb:90-815900
KITopen ID: 1000081590
HGF-Programm 43.23.02; LK 01
Erschienen in Applied Sciences
Band 8
Heft 4
Seiten 528
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