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Synthesis and chemical characterization of photoresists for X-ray imaging

Vlnieska, Vitor

Abstract:

Verschiedenste Arten von Bildgebungstechnologien und die Herstellung von Mikromustern beruhen auf der Herstellung von Lithografie-basierten Prozessketten. Fotolacke (oder Fotoharze) sind die hauptsäch-lichsten und wichtigsten Basisstoffe, die für Lithografietechniken nötig sind. Negativlacke sind die am besten geeigneten Fotolacke für die Herstellung von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis („high aspect ratio, HAR“) durch Röntgenlithografie. Ein Beispiel für diese Strukturen sind die als Gitter bezeichneten optischen Komponenten, die in phasenempfindlichen Abbildungssystemen verwendet werden.
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Abstract (englisch):

Several types of imaging technologies and micropatterning production rely on lithography process chain fabrication. Photoresists (or photo-resins) are the main and most important raw material used for lithography techniques. Negative-tone photo-resins are the most suitable raw materials for the production of high aspect ratio (HAR) structures through X-ray lithography. An example of these structures is the optical components known as gratings, used in phase-sensitive imaging systems.
Nowadays, even with the best technologies and radiation sources available, it is still challenging to produce gratings without structural defects or imperfections. ... mehr


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000132768
Veröffentlicht am 08.06.2021
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsdatum 08.06.2021
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000132768
HGF-Programm 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat.
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Umfang 138 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Chemie und Biowissenschaften (CHEM-BIO)
Institut Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Prüfungsdatum 23.07.2020
Schlagwörter Micropatterning, microfabrication, X-ray, lithography, polymer synthesis, polymer characterization, photoresist, photo-resin
Relationen in KITopen
Referent/Betreuer Grunwaldt, J.-D.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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