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Epoxy Resins for Negative Tone Photoresists

Vlnieska, Vitor 1; Mikhaylov, Andrey ORCID iD icon 1; Zakharova, Margarita ORCID iD icon 1; Blasco, Eva 2; Kunka, Danays ORCID iD icon 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000098274
Veröffentlicht am 16.09.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.3390/polym11091457
Scopus
Zitationen: 10
Web of Science
Zitationen: 8
Dimensions
Zitationen: 10
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2073-4360
KITopen-ID: 1000098274
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Polymers
Verlag MDPI
Band 11
Heft 9
Seiten Art.Nr.: 1457
Bemerkung zur Veröffentlichung Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds
Vorab online veröffentlicht am 06.09.2019
Schlagwörter Proposal: 2018-020-022630, Technologie: ESI-µTOF-MS
Nachgewiesen in Scopus
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Web of Science
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