Epoxy Resins for Negative Tone Photoresists
Vlnieska, Vitor 1; Mikhaylov, Andrey
1; Zakharova, Margarita
1; Blasco, Eva 2; Kunka, Danays
1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Zakharova, Margarita
1; Blasco, Eva 2; Kunka, Danays
11 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2073-4360 KITopen-ID: 1000098274 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Polymers |
| Verlag | MDPI |
| Band | 11 |
| Heft | 9 |
| Seiten | Art.Nr.: 1457 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds |
| Vorab online veröffentlicht am | 06.09.2019 |
| Schlagwörter | Proposal: 2018-020-022630, Technologie: ESI-µTOF-MS |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |
| Relationen in KITopen |