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Lithographic Performance of Aryl Epoxy Thermoset Resins as Negative Tone Photoresist for Microlithography

Vlnieska, Vitor; Zakharova, Margarita; Mikhaylov, Andrey; Kunka, Danays

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.3390/polym12102359
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2073-4360
KITopen-ID: 1000124927
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01)
X-Ray Optics
Erschienen in Polymers
Band 12
Heft 10
Seiten 2359
Vorab online veröffentlicht am 14.10.2020
Schlagwörter Proposal-Nr. 2018-020-022630, Technologien: ESI-/MALDI-TOF und NMR
Nachgewiesen in Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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