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Mask-aligner Talbot lithography using a 193nm CW light source

Vetter, Andreas 1; Kirner, R.; Opalevs, D.; Scholz, M.; Leisching, P.; Scharf, T.; Noell, W.; Rockstuhl, Carsten 1,2; Voelkel, R.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000083933
Veröffentlicht am 22.06.2020
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2296503
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Zitationen: 3
Dimensions
Zitationen: 3
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-1666-0
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000083933
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Optical Microlithography XXXI 2018; San Jose; United States; 27 February 2018 through 1 March 2018. Ed.: J.Kye
Verlag Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Seiten Art.Nr. 105870W
Serie Proceedings of SPIE ; 10587
Nachgewiesen in Dimensions
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