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Resolution enhancement in mask aligner photolithography

Vetter, Andreas

Abstract:
Photolithographie ist eine unentbehrliche Technologie in der heutigen Mikrofabrikation integrierter elektronischer Schaltungen und optischer Komponenten auf verschiedenen Größenskalen. Die zugrundeliegende Aufgabe ist die Replikation der gewünschten Struktur, die kodiert ist in einer Photomaske, auf einem photolackbedeckten Wafer. In vergangenen Jahrzehnten gab es eine beeindruckende Weiterentwicklung photolithographischer Anlagen, was Auflösungen weit unterhalb eines Mikrometers ermöglicht.

Das einfachste photolithographische Instrument ist der Maskenjustierbelichter, bei dem die Photomaske und der Wafer entweder in Kontakt oder in unmittelbare Nähe gebracht werden (Proximity-Modus), ohne zusätzliche optische Komponenten dazwischen. ... mehr

Abstract (englisch):
Photolithography is an indispensable tool in the modern microfabrication of integrated electronics and optical devices on several length scales. The task at hand is to replicate a desired pattern, encoded in a photomask, on a photoresist-covered wafer. Recent decades have witnessed an impressive development of photolithographic equipment, enabling a resolution much finer than a micron.

Potentially the simplest photolithographic tool is the mask aligner. It brings the photomask and the wafer in contact or close proximity, with no additional optics in between. Being introduced over 50~years ago, the cost-effective operation renders mask aligner lithography in proximity mode the method of choice for fabricating non-critical layers, with a spatial resolution down to several microns. ... mehr

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000104490
Veröffentlicht am 09.01.2020
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000104490
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Umfang 165 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Prüfungsdatum 22.11.2019
Referent/Betreuer Prof. C. Rockstuhl
Projektinformation NOLOSS (EU, H2020, 675745)
Bemerkung zur Veröffentlichung Promotion im Rahmen des Marie Sklodowska-Curie Innovative Training Network (ITN) 'Noloss'
Schlagwörter Photolithography, Resolution enhancement, Optics, Optical system design, Nanotechnology, Metasurface, Optical proximity, correction, Noloss
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