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Computational rule-based approach for corner correction of non-Manhattan geometries in mask aligner photolithography

Vetter, Andreas 1; Yan, Chen; Kirner, Raoul; Scharf, Toralf; Noell, Wilfried; Voelkel, Reinhard; Rockstuhl, Carsten 1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.27.032523
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen-ID: 1000099735
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Optics express
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 27
Heft 22
Seiten 32523
Vorab online veröffentlicht am 24.10.2019
Nachgewiesen in Dimensions
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