Computational rule-based approach for corner correction of non-Manhattan geometries in mask aligner photolithography
Vetter, Andreas 1; Yan, Chen; Kirner, Raoul; Scharf, Toralf; Noell, Wilfried; Voelkel, Reinhard; Rockstuhl, Carsten
1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,21 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 10.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1094-4087 KITopen-ID: 1000099735 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Optics express |
| Verlag | Optica Publishing Group (OSA) |
| Band | 27 |
| Heft | 22 |
| Seiten | 32523 |
| Vorab online veröffentlicht am | 24.10.2019 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |
| Relationen in KITopen |