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Computational rule-based approach for corner correction of non-Manhattan geometries in mask aligner photolithography

Vetter, Andreas; Yan, Chen; Kirner, Raoul; Scharf, Toralf; Noell, Wilfried; Voelkel, Reinhard; Rockstuhl, Carsten

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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen-ID: 1000099735
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Optics express
Verlag Optical Society of America (OSA)
Band 27
Heft 22
Seiten 32523
Vorab online veröffentlicht am 24.10.2019
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