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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.26.022218
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Zitationen: 1
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Printing sub-micron structures using Talbot mask-aligner lithography with a 193 nm CW laser light source [in press]

Vetter, Andreas; Kirner, Raoul; Opalevs, Dmitrijs; Scholz, Matthias; Leisching, Patrick; Scharf, Toralf; Noell, Wilfried; Rockstuhl, Carsten; Voelkel, Reinhard



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen-ID: 1000085658
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Optics express
Band 26
Heft 17
Seiten 22218-22233
Vorab online veröffentlicht am 13.08.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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