Printing sub-micron structures using Talbot mask-aligner lithography with a 193 nm CW laser light source [in press]
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Jahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1094-4087 KITopen ID: 1000085658 |
| HGF-Programm | 43.23.01; LK 01 |
| Erschienen in | Optics express |
| Band | 26 |
| Heft | 17 |
| Seiten | 22218-22233 |
| Vorab online veröffentlicht am | 13.08.2018 |