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Enabling proximity mask-aligner lithography with a 193nm CW light source

Kirner, R.; Vetter, Andreas; Opalevs, D.; Scholz, M.; Leisching, P.; Scharf, T.; Noell, W.; Rockstuhl, Carsten; Voelkel, R.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2297171
Scopus
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-1666-0
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000083934
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Optical Microlithography XXXI 2018; San Jose; United States; 27 February 2018 through 1 March 2018. Ed.: J.Kye
Verlag SPIE, Bellingham (WA)
Seiten Art.Nr. 105871F
Serie Proceedings of SPIE ; 10587
Nachgewiesen in Scopus
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