Enabling proximity mask-aligner lithography with a 193nm CW light source
Kirner, R.; Vetter, Andreas 1; Opalevs, D.; Scholz, M.; Leisching, P.; Scharf, T.; Noell, W.; Rockstuhl, Carsten
1,2; Voelkel, R.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Voelkel, R.1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-5106-1666-0 ISSN: 0277-786X KITopen-ID: 1000083934 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Optical Microlithography XXXI 2018; San Jose; United States; 27 February 2018 through 1 March 2018. Ed.: J. Kye |
| Verlag | Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE) |
| Seiten | Art.Nr. 105871F |
| Serie | Proceedings of SPIE ; 10587 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions |
| Relationen in KITopen |