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Improving the Resolution in Mask-Aligner Lithography

Vetter, A.; Kirner, R.; Scharf, T.; Noell, W.; Rockstuhl, C.; Voelkel, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5090-6372-7
ISSN: 2160-5033
KITopen ID: 1000086603
HGF-Programm 43.23.01; LK 01
Erschienen in 23rd International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics, OMN 2018; Forum Rolex of the Rolex Learning Center, Campus of Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)Lausanne; Switzerland; 29 July 2018 through 2 August 2018
Verlag IEEE, Piscataway (NJ)
Seiten Art. Nr.: 8454655
Serie International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics ; 2018-July
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