Improving the Resolution in Mask-Aligner Lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-5090-6372-7 ISSN: 2160-5033 KITopen-ID: 1000086603 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | 23rd International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics, OMN 2018; Forum Rolex of the Rolex Learning Center, Campus of Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)Lausanne; Switzerland; 29 July 2018 through 2 August 2018 |
| Verlag | Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) |
| Seiten | Art. Nr.: 8454655 |
| Serie | International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics ; 2018-July |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus |
| Relationen in KITopen | |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |