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Improving the Resolution in Mask-Aligner Lithography

Vetter, A. 1; Kirner, R.; Scharf, T.; Noell, W.; Rockstuhl, C. 1; Voelkel, R.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/OMN.2018.8454655
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Zitationen: 1
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5090-6372-7
ISSN: 2160-5033
KITopen-ID: 1000086603
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in 23rd International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics, OMN 2018; Forum Rolex of the Rolex Learning Center, Campus of Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL)Lausanne; Switzerland; 29 July 2018 through 2 August 2018
Verlag Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Seiten Art. Nr.: 8454655
Serie International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics ; 2018-July
Nachgewiesen in Scopus
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