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Optimizing illumination for full field imaging at high brilliance hard X-ray synchrotron sources

Márkus, O.; Greving, I.; Kornemann, E.; Storm, M.; Beckmann, F.; Mohr, J.; Last, A.

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Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000087987
Veröffentlicht am 13.12.2018
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
urn:nbn:de:swb:90-879870
KITopen-ID: 1000087987
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01)
Erschienen in Optics express
Band 26
Heft 23
Seiten 30435
Vorab online veröffentlicht am 06.11.2018
Schlagworte 2014-013-005607 EBL XRL
Nachgewiesen in Web of Science
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