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Optimizing illumination for full field imaging at high brilliance hard X-ray synchrotron sources

Márkus, O. 1; Greving, I.; Kornemann, E. 1; Storm, M.; Beckmann, F.; Mohr, J. 1; Last, A. 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000087987
Veröffentlicht am 13.12.2018
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.26.030435
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Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
urn:nbn:de:swb:90-879870
KITopen-ID: 1000087987
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Erschienen in Optics express
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 26
Heft 23
Seiten 30435
Vorab online veröffentlicht am 06.11.2018
Schlagwörter 2014-013-005607 EBL XRL
Nachgewiesen in Dimensions
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