KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Untersuchung des langsamen Risswachstums von heissgepresstem Siliziumnitrid bei hohen Temperaturen

Steinmann, D.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/200017677
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 1982
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200017677
Reportnummer: KFK-3414
Erscheinungsvermerk KfK-3414 (Oktober 82) Dissertation, Universitaet Karlsruhe 1982
Art der Arbeit Dissertation
Prüfungsdaten 01.01.1982
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page