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Untersuchung des langsamen Risswachstums von heissgepresstem Siliziumnitrid bei hohen Temperaturen

Steinmann, D.

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DOI: 10.5445/IR/200017677
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seit 08.05.2018
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seit 02.10.2016
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 1982
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 200017677
Reportnummer: KFK-3414
Erscheinungsvermerk KfK-3414 (Oktober 82) Dissertation, Universitaet Karlsruhe 1982
Abschlussart Dissertation
Prüfungsdaten 01.01.1982
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