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A most simple graphic way to reduce notch stresses by growth

Mattheck, C.; Kappel, R.; Tesari, I.; Sauer, A.; Soerensen, J.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/220061912
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoff- und Biomechanik (IMF2) (IMF2)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220061912
HGF-Programm 11.14.02 (POF I, LK 01) Optimierung u.Management vv.Baustoffen
Erscheinungsvermerk German-Japanese Workshop on Biomass and Nature Inspired Technologies, Nagoya, J, October 1-2, 2005 (Vortrag und Poster)
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