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A most simple graphic way to reduce notch stresses by growth

Mattheck, C.; Kappel, R.; Tesari, I.; Sauer, A.; Sörensen, J.

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DOI: 10.5445/IR/220069708
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seit 24.11.2018
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seit 23.03.2016
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoff- und Biomechanik (IMF2) (IMF2)
Publikationstyp Poster
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220069708
HGF-Programm 11.14.02 (POF I, LK 01)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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