A most simple graphic way to reduce notch stresses by growth

Mattheck, C.; Kappel, R.; Tesari, I.; Sauer, A.; Sörensen, J.

Volltext

DOI: 10.5445/IR/220069708

Seitenaufrufe: 74
seit 24.11.2018

Downloads: 122
seit 23.03.2016

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung - Werkstoff- und Biomechanik (IMF2) (IMF2)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2007
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220069708
HGF-Programm	11.14.02 (POF I, LK 01) Optimierung u.Management vv.Baustoffen
Relationen in KITopen	Verweist auf A most simple graphic way to reduce notch stresses by growth. Mattheck, C.; Kappel, R.; Tesari, I.; Sauer, A.; Soerensen, J. (2005) Vortrag (220061912)