Surface characteristics and wettability of magnetron-sputtered oxygen containing amorphous carbon (a-C:O) thin films

Stüber, M.; Danneil, F.; Rinke, M.; Ulrich, S.; Welle, A.; Lewin, E.; Jansson, U.

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DOI: 10.5445/IR/220088200

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Publikationstyp	Poster
Jahr	2012
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220088200
HGF-Programm	43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk	Internat.Conf.on Diamond and Carbon Materials, Granada, E, September 3-6, 2012
Externe Relationen	Abstract/Volltext