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In-stiu X-ray reflectivity measurements during DC sputtering of vanadium carbide thin films

Kaufholz, M.; Krause, B. ORCID iD icon; Kotapati, S.; Ulrich, S.; Stüber, M.; Baumbach, T.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/230090542
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230090542
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erscheinungsvermerk 76.Jahrestagung der DPG und DPG-Frühjahrstagung, Fachverband Dünne Schichten, Berlin, 25.-30.März 2012 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.47(2012), DS 26.3
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