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In-stiu X-ray reflectivity measurements during DC sputtering of vanadium carbide thin films

Kaufholz, M.; Krause, B.; Kotapati, S.; Ulrich, S.; Stüber, M.; Baumbach, T.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/230090542
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230090542
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 76.Jahrestagung der DPG und DPG-Frühjahrstagung, Fachverband Dünne Schichten, Berlin, 25.-30.März 2012 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.47(2012), DS 26.3
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