Neues diodenlasergestütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen

Ebert, V.; Schlosser, E.; Oser, B.; Kolb, T.; Wolfrum, J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	ITC – Bereich Thermische Abfallbehandlung (ITC-TAB)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2005
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 240062574
HGF-Programm	11.13.01 (POF I, LK 01) Abfallverbrennung
Veranstaltung	22. Deutscher Flammentag (2005), Braunschweig, Deutschland, 21.09.2005 – 22.09.2005
Relationen in KITopen	Verweist auf Neues diodenlasergestütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen. Ebert, V.; Schlosser, E.; Oser, B.; Kolb, T.; Wolfrum, J. (2005) Proceedingsbeitrag (170062574) Neues diodenlasergeschütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen = New diode laser supported process in the in-situ determination of the residence time distribution of product gases in high temperature processes. Ebert, V.; Schlosser, Ewald; Oser, Bernard L.; Kolb, Thomas; Wolfrum, Jürgen M. (2005) Zeitschriftenaufsatz (1000069857)