Neues diodenlasergeschütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen = New diode laser supported process in the in-situ determination of the residence time distribution of product gases in high temperature processes

Ebert, V.; Schlosser, Ewald; Oser, Bernard L. ¹; Kolb, Thomas ¹; Wolfrum, Jürgen M.
¹ Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/cite.200590341

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Engler-Bunte-Institut (EBI) Institut für Technische Chemie (ITC)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2005
Sprache	Deutsch
Identifikator	ISSN: 0009-286X, 1522-2640 KITopen-ID: 1000069857
HGF-Programm	11.13.01 (POF I, LK 01) Abfallverbrennung
Erschienen in	Chemie - Ingenieur - Technik
Verlag	Wiley-VCH Verlag
Band	77
Heft	8
Seiten	1109
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus
Relationen in KITopen	Verweist auf Neues diodenlasergeschütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen. Kolb, T.; Ebert, V.; Schlosser, E.; Oser, B.; Wolfrum, J. (2005) Vortrag (1000069855) Neues diodenlasergestütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen. Ebert, V.; Schlosser, E.; Oser, B.; Kolb, T.; Wolfrum, J. (2005) Vortrag (240062574)