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Neues diodenlasergeschütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen = New diode laser supported process in the in-situ determination of the residence time distribution of product gases in high temperature processes

Ebert, V.; Schlosser, Ewald; Oser, Bernard L. 1; Kolb, Thomas 1; Wolfrum, Jürgen M.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Zugehörige Institution(en) am KIT Engler-Bunte-Institut (EBI)
Institut für Technische Chemie (ITC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Deutsch
Identifikator ISSN: 0009-286X, 1522-2640
KITopen-ID: 1000069857
Erschienen in Chemie - Ingenieur - Technik
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 77
Heft 8
Seiten 1109
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