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Neues diodenlasergeschütztes Verfahren zur In-situ-Bestimmung der Verweilzeitverteilung von Produktgasen in Hochtemperaturprozessen

Ebert, V.; Schlosser, Ewald; Oser, Bernard L.; Kolb, Thomas; Wolfrum, Jürgen M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Engler-Bunte-Institut (EBI)
Institut für Technische Chemie (ITC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2005
Sprache Deutsch
Identifikator ISSN: 0009-286X, 1522-2640
KITopen ID: 1000069857
Erschienen in Chemie - Ingenieur - Technik
Band 77
Heft 8
Seiten 1109
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