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DOI: 10.5445/IR/270032961

Herstellung, Aufbau, Eigenschaften und Anwendungsverhalten von metastabilen Schichten aus dem System Ti-Si-C-N

Fella, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Forschungsbericht
Jahr 1992
Sprache Deutsch
Identifikator URN: urn:nbn:de:swb:90-AAA2700329617
KITopen ID: 270032961
Reportnummer: KFK-5021
HGF-Programm 43.01.02; LK 01
Serie KfK-Berichte ; 5021
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