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Herstellung, Aufbau, Eigenschaften und Anwendungsverhalten von metastabilen Schichten aus dem System Ti-Si-C-N

Fella, R.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/270032961
Veröffentlicht am 04.01.2018
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Forschungsbericht/Preprint
Publikationsjahr 1992
Sprache Deutsch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-AAA2700329617
KITopen-ID: 270032961
Reportnummer: KFK-5021
HGF-Programm 43.01.02 (Vor POF, LK 01)
Serie KfK-Berichte ; 5021
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