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Exposure-dependent refractive index of Nanoscribe IP-Dip photoresist layers

Dottermusch, Stephan 1; Busko, Dmitry 1; Langenhorst, Malte 1; Paetzold, Ulrich W. ORCID iD icon 1,2; Richards, Bryce S. ORCID iD icon 1,2
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.44.000029
Scopus
Zitationen: 40
Web of Science
Zitationen: 39
Dimensions
Zitationen: 39
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 01.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592, 1539-4794
KITopen-ID: 1000089725
HGF-Programm 43.23.04 (POF III, LK 01) Nanophotonics for Energy Conversion
Erschienen in Optics letters
Verlag The Optical Society of America (OSA)
Band 44
Heft 1
Seiten 29
Vorab online veröffentlicht am 17.12.2018
Nachgewiesen in Scopus
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Web of Science
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