Exposure-dependent refractive index of Nanoscribe IP-Dip photoresist layers
Dottermusch, Stephan 1; Busko, Dmitry 1; Langenhorst, Malte 1; Paetzold, Ulrich W.
1,2; Richards, Bryce S.
1,2
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Richards, Bryce S.
1,21 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) Lichttechnisches Institut (LTI) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 01.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0146-9592, 1539-4794 KITopen-ID: 1000089725 |
| HGF-Programm | 43.23.04 (POF III, LK 01) Nanophotonics for Energy Conversion |
| Erschienen in | Optics letters |
| Verlag | Optica Publishing Group (OSA) |
| Band | 44 |
| Heft | 1 |
| Seiten | 29 |
| Vorab online veröffentlicht am | 17.12.2018 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science OpenAlex Dimensions |
| Relationen in KITopen |