KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Exposure-dependent refractive index of Nanoscribe IP-Dip photoresist layers

Dottermusch, Stephan; Busko, Dmitry; Langenhorst, Malte; Paetzold, Ulrich W.; Richards, Bryce S.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.44.000029
Scopus
Zitationen: 1
Web of Science
Zitationen: 1
Seitenaufrufe: 23
seit 09.02.2019
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592, 1539-4794
KITopen-ID: 1000089725
HGF-Programm 43.23.04 (POF III, LK 01)
Erschienen in Optics letters
Band 44
Heft 1
Seiten 29
Vorab online veröffentlicht am 17.12.2018
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page